碳化钨等离子体涂层
2021-11-11 15:55:24 点击：
碳化钨等离子体涂层保证涂层细节
1/除脂和喷丸表面(3.2 um) Ra AS制备碳化钨等离子体涂层
用HVOF或类似方法涂W-Co-Cr涂层，以达到:
A.显微硬度1350 DHP (300g)
表面光洁度1.6- 2.0 um Ra
C.孔隙率小于1%
D.表面处理后的标称涂层厚度为1 30 um
喷涂后密封，以保护母材。
卷中心的成品直径应记录到小数点后两位,并标记在附在卷上的标签上
1/除脂和喷丸表面(3.2 um) Ra AS制备碳化钨等离子体涂层
用HVOF或类似方法涂W-Co-Cr涂层，以达到:
A.显微硬度1350 DHP (300g)
表面光洁度1.6- 2.0 um Ra
C.孔隙率小于1%
D.表面处理后的标称涂层厚度为1 30 um
喷涂后密封，以保护母材。
卷中心的成品直径应记录到小数点后两位,并标记在附在卷上的标签上
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